贺利氏拓宽了气雾沉积镀膜法的应用范围。到目前为止，该技术是在日本开发的，主要在亚洲用于等离子蚀刻室组件的涂层。虽然涂层方法有许多优点，但直到现在其他行业几乎没有应用它。“然而，拜罗伊特大学等大学的可行性研究表明，气溶胶沉积也为其他应用提供了优势，”贺利氏高性能涂料负责人Ilka Luck博士说。她看到了传感器技术、电力电子、电池和医疗技术等领域的潜力。
“在过去的两年里，我们一直在为工业规模的生产优化流程和机器。因此，我们是唯一一家从可行性研究到量产全程陪伴客户的供应商。”当传统方法无法达到所需的质量，或者根本无法生产所需的涂层时，这项技术尤其有前途。
气溶胶沉积是一种生产薄材料层的工艺。在载气的帮助下，物质粒子被加速到每秒几百米的速度。然后它们撞击一个表面，即所谓的基底，在那里它们形成一个封闭的薄膜。
高性能涂料
气溶胶沉积在可使用的涂层材料或基材方面没有根本的限制。“我们已经在涂层、金属和陶瓷上使用这两种材料。使用它的唯一要求是该材料是可加工的粉末，”拉克解释说。
所得到的1微米厚度的涂层具有接近体积材料的材料性能。同时，它们表现出高密度和粘附性。拉克说:“良好的粘附性是由于基材和层在相遇的地方形成了化学键。”
根据所使用的材料，气溶胶沉积应用的涂层可以用作电绝缘层，导热层，防腐和耐磨保护，粘附促进剂，用于表面处理，甚至作为独立的金属层。
新型材料组合
与热蒸发等涂层技术不同，气溶胶沉积可以在室温下完成，这是不耐温度的材料和基材的理想选择。在基底上沉积过程中既不发生材料也不发生相变。这使得涂层和基材的全新组合成为可能。贺利氏已经成功测试了广泛的衬底材料，包括钢、陶瓷、玻璃、塑料、硅和磷化铟晶圆。
制造商的工艺优势
诸如溅射或热蒸发等替代方法必须在高真空中进行，这是一个技术复杂且耗时的过程。气溶胶沉积通常不仅更快，而且在低真空和室温下进行。因此，新方法具有较高的沉积速率。
如需更多信息，请访问www.heraeus.com．
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