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IR-Blocking过滤器
Balzers的IR-Blocker可以有效地去除宽带光源产生的不必要的红外辐射。介电氧化物涂层设计提供了整个可见光谱的优异传输,而不会扭曲光源的光谱发射。滤光片可以根据光源的光谱特性进行优化,特别适合用于高热负荷的应用。
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我们的优势:
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分裂均匀地发生在整个镜面上。因此分束器可以安装在光路45°角下的任何位置而不干扰光学成像。中性分束器由无吸收介质涂层组成。所有中性分束器均可根据要求在后方安装宽带抗反射涂层。
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介质涂层提供特定的光学和功能特性:
金属涂层提供特定的光学和功能特性:
在光学应用中,避免缺陷一直很重要;清洁是我们所做一切的核心。然而,对于某些应用程序,更重要的是缺陷级别越低越好。
此类应用包括传感器盖,其中涂层衬底接近传感器元件,像素大小可达微米范围。对于激光功率较大的激光涂层,涂层缺陷是激光致涂层损伤的起点。在许多生物医学应用中,任何种类的颗粒和污染都是不可接受的。
低缺陷防反射涂层
用于高性能数字图像传感器的光学涂层要求非常低密度的小缺陷尺寸。宽带抗反射涂层具有低残留反射和光谱中性性能,消除鬼影效应。Optics Balzers提供卓越的低缺陷涂料和在洁净室区域生产的组件。
对于介质涂层,无论是任何类型的过滤器或AR涂层,都使用结构化光刻胶和剥离技术:在低温下,涂层沉积在已经涂有图案光刻胶的基材上,并通过剥离将涂层和光刻胶一起去除。最近的进展使我们能够将这种技术应用于> 10µm的非常大的过滤器厚度。铬基层通常通过湿法蚀刻去除:涂层后,铬层被光刻胶覆盖,光刻胶被图案化,铬层在打开的表面被化学去除。这一过程产生非常明确的边缘,锯齿度< 1 μ m。反应离子蚀刻可以取代湿法蚀刻,在介电材料中产生更精细的结构。对于较大的结构,也可以使用更具成本效益的屏蔽涂层。
对于质量控制,使用了自动光学检测系统,自动检查缺陷并确认生产了指定的图案尺寸。
Balzers Optics为上述所有高质量光学涂层提供图案解决方案。根据产品及其应用,可提供各种图案技术,以满足客户对特征尺寸和形状的广泛要求:
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