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IR-Blocking过滤器
Balzers公司的IR-Blocker有效地消除了宽带光源产生的不必要的红外辐射。介电氧化涂层设计提供了在整个可见光谱上的良好传输,而不扭曲光源的光谱发射。滤波器可以根据源的光谱特性进行优化,特别适合在高热负荷的应用中使用。
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我们的优势:
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分裂均匀地发生在整个镜面上。因此,该分束器可以安装在光路45°角下的任何位置,而不影响光学成像。中性分束器由无吸收介质涂层组成。所有中性分束器均可在背面按要求安装宽带防反射涂层。
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介质涂层具有特殊的光学和功能特性:
金属涂层具有特殊的光学和功能性能:
在光学应用中,避免缺陷一直很重要;清洁是我们所做一切的核心。然而,对于某些应用程序来说,缺陷级别越低越重要。
这类应用包括传感器盖,其中涂层基板接近传感器元件,像素大小可达微米范围。对于高激光功率的激光涂层,涂层缺陷是激光对涂层损伤的起点。在许多生物医学应用中,任何种类的颗粒和污染都是不可接受的。
低缺陷防反射涂料
用于高性能数字图像传感器的盖子上的光学涂层需要非常低密度的小缺陷尺寸。宽带防反射涂层具有低残留反射和光谱中性性能,消除鬼影效应。光学Balzers提供优越的低缺陷涂料和组件生产在洁净室区域。
对于介质涂层,无论是任何类型的过滤器或AR涂层,都使用结构化光刻胶和剥离技术:在低温下,涂层沉积到已经涂有图案光刻胶的基板上,并通过剥离将涂层与光刻胶一起去除。最近的进展允许我们将该技术应用于非常大的> 10µm的过滤厚度。铬基层通常通过湿法蚀刻去除:涂层后,在铬层上覆盖一层光刻胶,光刻胶形成图案,在打开的表面用化学方法去除铬层。这一过程产生了非常明确的边缘,锯齿度< 1µm。反应离子蚀刻代替湿法蚀刻,可用于在介电材料中产生精细得多的结构。对于较大的结构,也可以使用更经济的遮盖涂层。
对于质量控制,使用自动光学检测系统,自动检查缺陷并确认指定的图案尺寸已生产。
光学Balzers为上述所有高质量光学涂层提供图形解决方案。根据产品及其应用程序的不同,可以使用各种图形技术来满足客户对功能尺寸和形状的广泛要求:
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